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PHI GENESIS > X射线光电子能谱仪

设备简介
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ARTICLESPHI Genesis 500是一款最新的全自动多功能扫描聚焦X射线光电子能谱仪,具备高性能大面积和微区XPS分析能力,支持快速精准深度剖析。该设备拥有易操作的多功能选配附件,全自动样品传送停放功能,并能同时分析多个样品,适用于电池、半导体、光伏、催化剂等复杂多组分材料的研究与分析。其独特的可聚焦≤5μm的微区X射线束斑和提升的二次电子影像功能,使其成为高性能深度剖析的理想选择。此外,该设备还支持角分辨XPS分析,适用于多种固体材料及其器件的研究。
用于全固态电池、半导体、光伏、催化剂等领域的先进功能材料都是复杂的多组分材料,其研发依赖于化学结构到性能的不断优化。ULVAC-PHI,Inc. 提供的全新表面分析仪器“PHI GENESIS” 全自动多功能扫描聚焦X 射线光电子能谱仪,具有卓越性能、高自动化和灵活的扩展能力,可以满足客户的所有分析需求。
特点:
l 简单易操作
l 简单友好的用户界面
l 多功能选配附件
l 全面的优良解决方案
l 多数量样品大面积分析
l 独一无二的可聚焦≤ 5μm 的微区X 射线束斑
l 大幅提升的二次电子影像
l 快速深度剖析
优势:
l 易操作式多功能选配附件
l 全自动样品传送停放
l 高性能大面积和微区XPS 分析
l 快速精准深度剖析
l 为电池、半导体、有机器件以及其他各领域提供全面解决方案
应用于:电池、半导体、光伏、新能源、有机器件、纳米颗粒、催化剂、金属材料、聚合物、陶瓷等固体材料及器件等领域。
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